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婷阅中文网 > 回到1997造芯片 > 第67章 参观晶圆厂流水线(中)

   这在场的一切举动自然也是被王向中尽收眼底,不过他仍然是不动声色,只是笑着上前说道:“左厂长,我们已经准备好了,可以开始了吧?”



    左为民轻轻扫了在场众人一眼,轻声道:“跟我来。”



    再通过一组气锁室,王向中几人便是到达了晶圆厂的内部核心所在——光刻室。



    光刻室,是一家晶圆厂的终极奥秘所在。这里处处遍布着­黄‌​­色‎​­的钠灯用于照明,气压和湿度也达到了一个人类舒适范围之外的指标。



    一进入这里,不仅会觉得钠灯的光线特别黄,同时,还会觉得防尘服下变得粘腻燥热起来,就如同进入了高压锅一般。



    因为空气的流动特性,气体总是会从高压地区流向低压地区,因此为了保证光刻室内的最大纯净程度,光刻室内的压强起码要比外面的大气压高上50kpa左右,以保证外部污染物不会随着空气流入光刻室内。



    在广义上,光刻中一般包含三个步骤,第一个步骤是涂胶,即涂抹光刻胶。



    光刻胶分为正胶和负胶两种,其中正胶遇光就会失去原有化学性质,而负胶遇光就会产生化学性质的变化,这两种胶通常用在不同的工序之中。



    第二道工序则是刻蚀,当硅单质基底均匀涂抹光刻胶后,通过光源对光刻胶进行曝光,再使用超纯水和化学物质对基底进行蚀刻,在基底表面留下与光掩模一致的坑道。



    而第三道工序则是沉积,在坑道内的不同部分掺入硼、磷等杂质,并使其沉积在基底表面,通过它们不同的化学性质,在基底这张不导电的硅片上人为创造可以单向导电的pn二极管。

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